报告题目：Fabrication and applications of alloy, oxide and nitride films produced by high power impulse magnetron sputtering
报告时间：2019年8月19日星期一上午9:00--11:00
报告地点：教九楼理学院会议室（三楼）
专家简介：陈胜吉，台湾明志科技大学教授，材料工程系主任。荣获“科技部补助大专校院奖励特殊优秀人才”。主要研究方向为透明导电薄膜开发及应用、热电薄膜开发及应用、磁及光记录薄膜开发、高功率脉冲磁控溅镀系统开发。
