2019年8月19日上午9:00-11:00，应化学学科邀请，台湾明志科技大学陈胜吉教授在我校曲江校区理学院会议室，为化学学科师生作了题为“Fabrication and applications of alloy, oxide and nitride films produced by high power impulse magnetron sputtering”的学术报告。
高功率脉冲磁控溅射 (High power impulse magnetron sputtering, HiPIMS) 系统之高脉冲电流可产生1018 – 1019 m-3之高电子密度，此电子密度范围高于传统直流磁控溅射(Direct Current Magnetron Sputtering, DCMS)系统1014–1016 m-3的三个级数。因HiPIMS系统具有产生高密度电浆的特性，其应用在薄膜具有很多优点，例如：溅射原子离化率高、薄膜致密性高、薄膜从优取向程度高、薄膜表面粗糙度低、薄膜附着力高、低基板温度及可大面积镀膜等。因此HiPIMS系统已广泛受到产、学、研各界的高度重视。
陈教授团队经多年研究发现，运用HiPIMS这些特点可沉积出高性能的合金、氧化物及氮化物薄膜。此次学术报告从四个部分介绍合金及化合物的HiPIMS制备：（1）高垂直磁异向性的FePt合金薄膜；（2）高电导率的CuxO薄膜；（3）高载流子浓度的p型NiO薄膜；（4）高电导率的p型Cu3N氮化物薄膜。同时介绍了上述高性能氧化物及氮化物薄膜在电致变色元件、异质结构场效应晶体、光传感器及离子传感器等领域的实际应用。
陈教授的工作引起了参会师生的极大兴趣，与参会师生进行了互动交流。另外，陈教授还介绍了明志科技大学、材料系及电浆与薄膜科技中心的相关情况，希望与我校化学学科建立长远的合作关系。
陈胜吉教授简介：
台湾明志科技大学教授，材料工程系主任。荣获“科技部补助大专校院奖励特殊优秀人才”。主要研究方向为透明导电薄膜开发及应用、热电薄膜开发及应用、磁及光记录薄膜开发、高功率脉冲磁控溅镀系统开发。
